Resultats de la cerca
Es mostren 2129 resultats
ceratolític
Medicament o procediment terapèutic destinat a la fragmentació de la ceratina i, per tant, a la descamació de la capa còrnia de l’epidermis.
hipoteci
Micologia
En els líquens, capa d’hifes procedents de la medul·la i que forma la base sobre la qual s’erigeix l’himeni dels apotecis.
La part perifèrica forma la vora del disc o parateci
mesoglea
Anatomia animal
Capa de teixit intermèdia entre l’ectoderma i l’endoderma dels metazous més poc evolucionats, com ara els porífers, els cnidaris i els ctenòfors.
Té una consistència gelatinosa i inclou cèllules indiferenciades, com els arqueòcits i els amebòcits
pavó
Tecnologia
Capa molt fina de sulfurs i clorurs metàl·lics, de color blavós, amb què són revestides les superfícies de metalls ferrosos perquè no es rovellin.
esclavina
Indumentària
Peça de vestir consistent en una espècie de capa curta, oberta per davant i amb caputxa, portada, a l’edat mitjana, pels pelegrins eslaus.
dermatomicosi
Patologia humana
Denominació genèrica de les infeccions parasitàries micòtiques que afecten la capa còrnia de la pell, les ungles i els pèls causades per fongs dermatòfits.
També és anomenada tinya
referit
Construcció i obres públiques
Capa de calç i grava, de guix o d’una altra mescla, que és aplicada a una paret per tal de fer-la llisa.
referir
Construcció i obres públiques
Donar (a una paret) una capa de calç i grava o de guix, per allisar-ne la superfície i preparar-la per emblanquinar-la.
paper cuixé
Paper cuixé
Tecnologia
Química
Paper proveït d’una capa d’estuc que li confereix impermeabilitat, molt setinat i envernissat, i que hom empra per a gravats, fotogravats, etc.
implantació iònica
Implantació iònica el feix d’ions incideix sobre les mostres mitjançant el tub accelerador
© Fototeca.cat
Electrònica i informàtica
Procediment que consisteix a bombardejar un material amb àtoms ionitzats de prou energia per a penetrar més enllà de la capa superficial del material.
La introducció d’aquests ions permet de canviar les propietats del material implantat, raó per la qual aquesta tècnica és, avui en dia, àmpliament utilitzada en electrònica així com en altres camps del tractament de materials, com la metallúrgia En el camp de l’electrònica hom la utilitza per a dopar les oblies de substrat semiconductor en el procés de fabricació dels dispositius i circuits integrats En els processos habituals, l’energia dels ions és compresa entre les desenes de keV i 500 keV, si bé aquest àmbit és ampliat cap a la zona de més baixes energies, per tal d’…